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发布时间：2025-03-25
掩膜版(Photomask)，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。按应用领域来看，掩膜版可分为半导体芯片、平板显示、电路板和触控等类型。其中平板显示掩膜版是掩膜版应用第二大下游领域。2023年中国平板显示掩膜版行业市场规模约36亿元，近五年行业复合增速为11%。初步估算，2024年中国平板显示掩膜版行业市场规模进一步增长至约40亿元。
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