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    我国芯片光刻机发展历程

    发布时间:2024-10-27

    截至2020年底,我国光刻机龙头企业上海微电子成功制造出了28nm制程的光刻机,虽然还未量产但已经是我国光刻机历史上里程碑式的一步,说明我国光刻机研发水平在不断进步。综合来看,我国应加大研发投入,早日突破14nm芯片的完全自主量产,为我国汽车芯片打好良好的供给基础,确保我国汽车行业排平稳发展。