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半导体光刻胶产品分类及特征
发布时间：2024-10-27
目前半导体光刻胶最常使用曝光波长分类，主要有g线、i线、KrF、ArF和最先进的EUV光刻胶。越先进制程相应需要使用越短曝光波长光刻胶，以达到特征尺寸微小化。
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发布时间：2024-10-27
目前半导体光刻胶最常使用曝光波长分类，主要有g线、i线、KrF、ArF和最先进的EUV光刻胶。越先进制程相应需要使用越短曝光波长光刻胶，以达到特征尺寸微小化。
2021-09-18
2021-09-18
2021-09-18
2021-09-18
2019-01-24
2019-01-24
2019-01-24
2019-01-24
2019-01-24
2019-01-07