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掩膜版的工作原理
发布时间：2024-10-27
掩膜版(Photomask)，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。掩膜版是芯片制造过程中的图形“底片”，用于转移高精密电路设计，承载了图形设计和工艺技术等知识产权信息。掩膜版的功能类似于传统照相机的“底片”掩膜版工作原理如下图所示：
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发布时间：2024-10-27
掩膜版(Photomask)，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。掩膜版是芯片制造过程中的图形“底片”，用于转移高精密电路设计，承载了图形设计和工艺技术等知识产权信息。掩膜版的功能类似于传统照相机的“底片”掩膜版工作原理如下图所示：
2023-03-31
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