中国光刻胶行业重点政策历程图

我国光刻胶的研究始于20世纪70年代，最初阶段与国际水平相差无几，几乎和日本同时起步，但由于种种原因，差距愈来愈大。近年来随着半导体市场在我国迅速发展，光刻胶及其配套试剂在中国市场上呈快速增长的态势，截至目前，我国在半导体光刻胶领域的研发已有所突破，未来产业具有良好的发展前景。2014年以来，推动我国光刻胶行业的重点政策如下：