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半导体清洗工艺类别
发布时间：2024-10-27
半导体清洗工艺主要分为湿法和干法。其中湿法包括溶液浸泡法、机械刷洗法等，干法则包括等离子清洗、气相清洗等。根据半导体清洗工艺与适用场景的不同，半导体清洗设备也发展出了许多不同的种类，如单晶圆清洗设备、超声波清洗设备等等。
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发布时间：2024-10-27
半导体清洗工艺主要分为湿法和干法。其中湿法包括溶液浸泡法、机械刷洗法等，干法则包括等离子清洗、气相清洗等。根据半导体清洗工艺与适用场景的不同，半导体清洗设备也发展出了许多不同的种类，如单晶圆清洗设备、超声波清洗设备等等。
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