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  • 半导体湿法设备及半导体湿法设备超纯槽体概念

    半导体湿法设备及半导体湿法设备超纯槽体概念

    发布时间：2025-04-21

    半导体湿法设备主要包括湿法清洗刷洗设备及湿法刻蚀设备。目前在主流的芯片制程中，超过90%的芯片刻蚀都是干法，湿法刻蚀设备应用较为有限。而湿法清洗是主流的清洗技术路线，占芯片制造清洗步骤数量的90%以上。因此本文中半导体湿法设备相关市场规模主要指半导体清洗设备市场规模。

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    相关报告：《2025-2030年全球及中国半导体仪器仪表行业发展前景展望与投资战略规划分析报告》

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