-
2022-2024年中国半导体湿法设备超纯槽体占半导体清洗设备成本的比重
发布时间：2025-04-21
盛美上海为中国半导体湿法设备主要生产企业之一，按照盛美上海公布的年报数据计算，2022年、2023年、2024年其单台清洗设备原材料总成本分别为765.6万元、797.6万元、1098.5万元。2022年、2023年、2024年超纯槽体成本占比分别为1.96%，2.19%，1.91%。
搜索
发布时间：2025-04-21
盛美上海为中国半导体湿法设备主要生产企业之一，按照盛美上海公布的年报数据计算，2022年、2023年、2024年其单台清洗设备原材料总成本分别为765.6万元、797.6万元、1098.5万元。2022年、2023年、2024年超纯槽体成本占比分别为1.96%，2.19%，1.91%。
2025-04-21
2025-04-21
2025-04-21
2025-04-21
2025-04-21
2025-04-21
2019-01-24
2019-01-24
2019-01-24
2019-01-24