我国芯片光刻机发展历程

随着我国对光刻机的多年钻研，上海微电子在2007年研制出了可生产90nm芯片的光刻机，2016年实现量产。2020年，上海微电子再次突破了可生产28nm芯片的光刻机，虽然这套设备尚未量产且与荷兰ASML公司生产的光刻机存在一定的差距，但已经是我国光刻机发展史上里程碑式的一步。未来，随着我国技术的进步，我国一定可以产出14nm制程的光刻机。