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我国芯片制造设备水平和国外水平对比
发布时间：2024-10-27
但从目前我国芯片制造设备来看，仅在刻蚀设备领域达到了国际5nm水平，其余芯片制造设备的工艺均低于国际水平。而我国光刻机也仅能实现90nm的制程，根据短板理论，若脱离海外设备，我国只能生产90nm的芯片。
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发布时间：2024-10-27
但从目前我国芯片制造设备来看，仅在刻蚀设备领域达到了国际5nm水平，其余芯片制造设备的工艺均低于国际水平。而我国光刻机也仅能实现90nm的制程，根据短板理论，若脱离海外设备，我国只能生产90nm的芯片。
2021-07-01
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2019-01-24