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中国薄膜沉积设备相关领先企业技术进展情况
发布时间：2024-10-27
为加速薄膜沉积设备国产化脚步，近年来北方华创和沈阳拓荆两家公司不断加大研发力度，也分别在技术储备以及客户认证方面取得了良好进展。2020年4月7日，北方华创宣布，其THEORISSN302D型12英寸氮化硅沉积设备进入国内集成电路制造龙头企业。该设备的交付，意味着国产立式LPCVD设备在先进集成电路制造领域的应用拓展上实现重大进展。
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发布时间：2024-10-27
为加速薄膜沉积设备国产化脚步，近年来北方华创和沈阳拓荆两家公司不断加大研发力度，也分别在技术储备以及客户认证方面取得了良好进展。2020年4月7日，北方华创宣布，其THEORISSN302D型12英寸氮化硅沉积设备进入国内集成电路制造龙头企业。该设备的交付，意味着国产立式LPCVD设备在先进集成电路制造领域的应用拓展上实现重大进展。
2020-09-07
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2020-09-07
2020-09-07
2020-09-07
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2019-01-24
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