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截至2021年12月全球第三代半导体行业被引用次数TOP10专利
发布时间:2024-10-27
GaN场效应晶体管(专利号:WO2003071607A1)和一种增强型氮化镓HEMT器件结构(专利号:CN101312207A)是被引用次数最多的两大第三代半导体专利,两者被引用的次数均超过了90次。其他被引用次数前十大专利如下所示:
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发布时间:2024-10-27
GaN场效应晶体管(专利号:WO2003071607A1)和一种增强型氮化镓HEMT器件结构(专利号:CN101312207A)是被引用次数最多的两大第三代半导体专利,两者被引用的次数均超过了90次。其他被引用次数前十大专利如下所示:
2021-12-31
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