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    光刻机演变历程

    发布时间：2024-10-27

    随着半导体技术的更新换代，光刻机也从最开始的g线(436nm)逐渐发展为近十年间兴起的EUV光刻机，从接触式向接近式，最后演变成步进式为主。EUV光刻机，又称极紫外线光刻机，是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响，其中，小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。

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    相关报告：《2024-2029年中国光刻机行业市场前瞻与投资战略规划分析报告》

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